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光程研創股股票新聞
《科技》光程研創攜手II-VI 合攻元宇宙商機
10:382022-07-20 時報資訊 財經內容中心
【時報記者林資傑台北報導】光學和電子技術廠光程研創(Artilux)宣布攜手半導體雷射器領導廠II-VI公司,共同展示新一代3D感測攝影機,提供更寬廣的偵測範圍和更高的成像解析度,大幅增強感測效能,優化元宇宙生態圈的使用者體驗,在消費性及車用市場實現更廣泛多元的深度感測應用。
市場對元宇宙基礎架構投資持續蓬勃發展,驅動感測器需求成長,協助用戶實現更逼真和身歷其境的虛擬體驗。II-VI與光程研創結合在磷化銦(InP)半導體雷射器及鍺矽(GeSi)感測器陣列的專有技術優勢,共同推出新世代微型3D感測攝影機,明顯擁有更優越效能。
II-VI提供高度整合的短波紅外光(SWIR)發光模組,內含InP邊緣發射雷射器,可提供最高2W的輸出功率和光學擴散器,採用表面貼裝技術(SMT)製程的封裝,帶來低成本和高品質的組裝。
而光程研創的攝影機特點,為搭載高頻寬和高量子效率的鍺矽SWIR感測器陣列,建立於具高度擴展性的CMOS技術平台上。相較市場多運作於940nm波段的3D感測攝影機,雙方推出能運作於短波紅外線1380nm波段的新世代微型3D感測攝影機。
II-VI公司光電器件與模組事業處資深副總裁Julie Sheridan Eng表示,與近紅外光(NIR)波長相比,波長較長的短波紅外光能揭露更多的物質材料細節,以及提供更佳的對比度,特別是在戶外環境中。
Julie Sheridan Eng指出,大氣在1380nm波段比在940nm吸收更多太陽光,可減少背景光雜訊干擾、大幅改善信噪比,使攝影機能提供更長的偵測距離和更高的成像解析度,可用更強的明亮度照射場景,在獲得絕佳效能同時維護人眼安全。
光程研創共同創辦人暨技術長Neil Na表示,此款微型SWIR 3D感測攝影機可無縫整合至下一代消費性裝置中,包括無數正為擴增實境、混合實境和虛擬實境等應用所開發的裝置,共同展示能讓元宇宙逐步普及且融入娛樂及工作場所的關鍵能力。
光程研創新晶片 創3世界標竿
投入矽鍺(GeSi)光子技術的光程研創(Artilux)30日宣布,全球首創基於12吋CMOS製程結合矽鍺短波紅外線(Shortwave Infrared,SWIR)雙模(2D/3D)感知技術單晶片,已驗證完成並於台積電導入量產。
光程研創表示,新晶片量產成功創下推出高解析GeSi像素技術、推出SWIR雙模成像技術、以及SWIR在12吋晶圓量產等三個世界第一標竿,並可望加速推動光達(LiDAR)應用全面普及化。。
紅外線感測已經被大量應用在行動裝置、智慧穿戴、智慧家電、環境偵測等領域,其中極具穿透掃描特性的SWIR短波紅外光影像感知技術需求大增。由於現階段市場上SWIR波段皆為2D成像應用,主要採用砷化鎵(GaAs)或磷化銦(InP)基板及其他三五族化合物半導體的單元感測器製程生產,少數高解析度成像陣列除價格昂貴之外,亦無法與CMOS製程進行單晶片整合,更遑論能在SWIR波段呈現高畫質3D影像。
光程研創與台積電合作,推出基於CMOS製程的GeSi技術,在逐一克服先進材料導入、革新光子及整合光學技術、晶片系統架構及演算法等挑戰後,已能在SWIR波段演繹更為精細的2D與3D成像及辨識效果,同時滿足業界對微小化、低功耗、安全性(無鉛)、高整合度、具成本競爭力進行大規模量產的期待。
光程研創執行長陳書履表示,光程研創將最先進的光子技術商業化,以期更緊密與人類生活應用連結,此次以全球首創CMOS製程的SWIR雙模感知技術,再度寫下光學成像嶄新的里程碑。
未來將持續以紮實的創新技術實力加速光學感測等多元應用,期望引領新一波SWIR產業生態圈的蓬勃發展。
隨著SWIR雙模感知單晶片在台積電量產,光程研創寫下三個世界第一標竿成果。
一是推出高解析GeSi像素技術,解決業界以矽(Si)為製程技術只能應用較窄波段及量子感光效率在不可見光波段低落的問題。二是SWIR雙模感知單晶片推出,解決業界無法以單晶片同時在SWIR波段呈現2D和3D成像的問題。三是在台積電12吋廠量產,解決業界SWIR成像像素只能在6吋以下晶圓產線製造、且無法和CMOS製程電子電路整合成單一晶片的問題。
光程研創 Artilux 獨家鍺矽技術 獲台杉物聯網基金投資
3D感測從手機、娛樂到車用 商機爆發
隨著行動裝置應用愈來愈廣,每一次手機大廠推出新技術或是新應用,都會帶動相關技術及產業的商機,手機圖像處理從2D走向3D就是其中一例。自從2017年9月iPhone X正式採用3D感測結構光技術應用於手機前置鏡頭做為臉部辨識,安卓系統手機則是在兩年後跟進採用手機後置3D ToF(Time of Flight飛時測距)技術,強化照相功能。今年10月,iPhone12新機中有兩款pro新機之後置鏡頭亦導入3D ToF技術,希望讓果粉以前所未有的方式體驗擴增實境(AR)。兩大系統手機大廠選擇將3D ToF做為標準配備,不只代表3D感測技術應用已經走出傳統工業領域,未來衍生在AR及車用電子的應用商機及市場更是值得期待。
光程研創全球首創導入鍺矽作為3D感光材料
台杉投資物聯網基金近日新增、位於新竹竹北專注於感測技術及高速光通訊晶片的新創公司:光程研創Artilux https://www.artiluxtech.com/ ,就是鎖定3D ToF技術開發。ToF是以通過發射紅外光照射到物體表面反射後,根據折返的時間計算與物體間不同位置的距離及辨識物體影像。3D ToF採用的不同技術會突顯在速度、功耗及性能上;紅外光波長愈長,不但可保護人眼,室外時更可抗陽光及其它光線干擾,達到室內、外一致的感測結果,使得辨識更為精確。然而可吸收超過1000nm波長以上之既有三五族感光材料價格相對昂貴,因此目前主流市場仍採用以矽為基礎的3D ToF技術,其操作波長受限在 850nm~940nm。
光程研創為全球首創導入先進材料:鍺矽GeSi作為感光材料,搭配自主研發3D算法、專利的感光元件及晶片設計並由台積電協助生產,成功在12吋矽晶圓上開發出可同時操作在850nm~1550nm波長 (NIR & SWIR)的3D ToF技術,可增加10倍以上人眼安全性、提升戶外效能並大幅降低材料成本。
光程研創成立於2014年。部分創始人於美國史丹福大學研究所畢業後,曾參與Intel「矽光計畫」(矽光束取代傳統銅纜線傳遞電腦資料)。有感於隨著行動通訊網路技術提升帶動雲端應用的蓬勃發展,資料中心及各項終端設備,包括智慧手機、車用電子、工業4.0等都需要更快、更穩定及精確的傳輸及感測工具,他們認為鍺矽GeSi材料的特性不僅能應用於光傳輸更有潛力推動3D ToF技術的進化。為確保製程技術及產品穩定,光程研創在創業後隔年,就向台積電提出合作,在台積電一年評估後正式展開。奠基於雙方合作成果的Artilux Explore 3D ToF技術已達量產,獲數家大廠認證並採用,預計將於2021年下半年導入手機並同時布局 車用光達市場。
學術界同步認可之先進技術
光程研創除了在產品研發及推廣闖出佳績,其鍺矽GeSi 3D TOF技術同時也獲得國際固態電路研討會(ISSCC)及影像感測器業界認可,相關論文入選ISSCC 2020,同時亦獲得每年於歐洲舉辦的Image Sensor Europe所頒發之「2020 Biggest Breakthrough Technology」年度獎項。產學界同時認可,不但證明該公司研發能力,更重要的是將帶動未來在3D ToF技術的創新。
根據Yole Developement國際調研機構預估,全球3D感測的市場規模到2023年將達到184億美元,最大的成長動力來自消費與汽車產業。台杉投資表示消費市場中的智慧型手機,在蘋果及安卓系統陸續導入3D ToF技術後,3D立體圖像可以透過手機真實呈現,配合5G低延遲、高傳輸特性,未來手機搭配AR應用也逐步到位。台杉投資指出,台杉物聯網基金自2017年12月成立至今,已完成13家台、美公司的投資(含光程研創),佈局涵蓋5G通訊、先進製造、企業軟體、自動化、智慧醫療等五大應用領域,技術核心集中在軟體開發、系統整合、解決方案。
目前台杉物聯網基金的投資組合中,從3D全像投影開發、高階音頻信號軟體開發、4D雷達技術、節能省電儲存裝置、光達技術、5G基地設備,皆是佈局下世代產業的需求。光程研創成員學經歷完整,技術能力具有國際水準,台杉投資將協助該公司擴大產品在不同領域產業的應用,並串接國際技術及市場。
公司簡介
光程研創成立於2014年,位於台灣新竹、美國門洛帕克及中國深圳。光程擁有深厚的技術能量,致力於實現感測技術及高速光通訊元件的劃世代革命。憑藉著在基礎物理學的技術突破及與台積電的密切合作,光程不僅開發出獨一無二的3D影像感測器,以開啟各項AI感知應用的可能性,同時也為高速光通訊領域提供了全方位且具成本效益的解決方案。光程期能成為光通訊及3D影像感測的領航者,透過產品的優異性能,進一步實現行動通訊、自動駕駛、工業4.0等前瞻性科技。
公司基本資料
統一編號 | 24624152 |
公司狀況 | 核准設立 |
股權狀況 | 僑外資 |
公司名稱 | 光程研創股份有限公司 (出進口廠商英文名稱:ARTILUX INC.) 107年07月03日 發文號1073337996變更名稱 (前名稱:光澄科技股份有限公司) |
章程所訂外文公司名稱 | |
資本總額(元) | 300,000,000 |
實收資本額(元) | 204,000,000 |
每股金額(元) | 10 |
已發行股份總數(股) | 20,400,000 |
代表人姓名 | 陳書履 |
公司所在地 | 新竹縣竹北市竹北里12鄰台元一街6號8樓之1 |
登記機關 | 經濟部中部辦公室 |
核准設立日期 | 103年07月30日 |
最後核准變更日期 | 110年04月13日 |
複數表決權特別股 | 無 |
對於特定事項具否決權特別股 | 無 |
特別股股東被選為董事、監察人之禁止或限制或當選一定名額之權利 無 | |
所營事業資料 | IG02010 研究發展服務業 I501010 產品設計業 F401010 國際貿易業 ZZ99999 除許可業務外,得經營法令非禁止或限制之業務 |
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